Kertas Penghapus Kamar Bersih Anti-statis yang Dapat Diandalkan Untuk Keamanan Semikonduktor

Kertas penghapus kamar bersih anti-statis yang dapat diandalkan untuk keamanan semikonduktor

Deskripsi:

Bahan yang Kuat:

Dibuat dari kertas Dupont Tyvek 40g (polietilen kepadatan tinggi), produk ini menawarkan fleksibilitas dan daya tahan yang sangat baik, mampu menahan lebih dari 20.000 lipatan tanpa robek atau menumpahkan.

Dirancang Ringan: Beratnya hanya setengah dari kertas biasa, namun tetap kuat dan melindungi, sehingga lebih nyaman digunakan dan diangkut.

Ketahanan kimia yang luar biasa:

Bahan ini sangat tahan terhadap sebagian besar asam, basa, garam, dan banyak pelarut, melindungi produk dari korosi kimia di lingkungan yang keras.

Sifat anti-statis: Diobati dengan tindakan anti-statis untuk mencegah penumpukan statis selama pengolahan dan kemasan, memastikan keamanan komponen elektronik sensitif dan instrumen presisi.

Rasanya alami dan permukaan halus:

Proses manufaktur yang unik menghasilkan bahan yang halus dan alami yang dilipat dengan tepat, meningkatkan kualitas kemasan.

Skenario Aplikasi
Industri Semikonduktor:

Digunakan untuk kemasan dan isolasi komponen semikonduktor sensitif, melindungi mereka dari kerusakan statis dan kontaminasi kimia selama transportasi dan penyimpanan.

Industri panel LCD:

Menyediakan perlindungan untuk panel LCD dan komponen mereka, mencegah goresan, statis, dan kontaminasi selama pembuatan, transportasi, dan perakitan.

Mesin presisi dan elektronik:

Ideal untuk kemasan berbagai bagian mekanik presisi dan produk elektronik, menawarkan perlindungan lembut namun kuat terhadap kerusakan fisik atau korosi kimia selama transportasi dan penyimpanan.

Laboratorium dan Industri Farmasi:

Digunakan sebagai kertas penghalang pelindung untuk peralatan dan bahan sensitif di lingkungan yang bersih dan bebas kontaminan.

Aplikasi kedirgantaraan dan militer:Cocok untuk kemasan dan perlindungan peralatan aerospace dan militer, memberikan perlindungan tingkat tinggi terhadap korosi statis, kimia, dan kerusakan fisik.